Издания автора: Макушина Н.В.

Технологические процессы микроэлектроники

Описана методика проведения лабораторных работ по дисциплине "Технологические процессы микроэлектроники", выполнение которых необходимо для приобретения студентами начальных навыков распознавания элементов топологии полупроводниковых интегральных микросхем и практической работы с оборудованием, используемым при их производстве.

Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра

Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин.

1