Нанотехнологии и микромеханика. Часть 6. Базовые технологические процессы микросистемной техники

Нанотехнологии и микромеханика. Часть 6. Базовые технологические процессы микросистемной техники
К.Г. Потловский, Е.А. Скороходов, С.А. Козубняк
  • Год:
    2013
  • Тип издания:
    Учебное пособие
  • Объем:
    68 стр. / 3.95 п.л
  • Формат:
    60x84/16
  • ISBN:
    978-5-7038-3729-0
  • Читать Online

Ключевые слова: LIGA-технология, бестигельная зонная плавка, газофазная эпитаксия, диффузия, жидкостное травление, ионная имплантация, ионно-лучевая литография, ионно-плазменный метод, ионное легирование, конденсация, метод Чохральского, микромеханика, микросистемная техникА, микростереолитография, микроэлектромеханическая система, молекулярно-лучевая эпитаксия, монокристаллический кремний, нанотехнология, объемное травление, сухое травление, термическое окисление, физическое осаждение, фотолитография, химическое осаждение, электронно-лучевая литография, электрохимическое осаждение, электрохимическое травление

Рассмотрены основные технологические процессы производства элементов микросистемной техники с точки зрения физических явлений. Обобщены результаты, полученные при выращивании монокристаллов, а также в процессах диффузии, имплантации, литографии и др.

Для студентов МГТУ им. Н.Э. Баумана, изучающих курс "Микросистемная техника".

ОГЛАВЛЕНИЕ
1. ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ
1.1. Получение монокристаллических слитков кремния методом Чохральского
1.2. Получение монокристаллического кремния методом бестигельной зонной плавки
2. ТЕХНОЛОГИИ МИКРОМЕХАНИКИ
2.1. Формирование оксидных слоев методом термического окисления
2.2. Формирование оксидных слоев методом химического осаждения из газовой фазы
3. ФИЗИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ
3.1. Конденсация из паровой (газовой) фазы
3.2. Ионно-плазменные методы
3.3. Электрохимическое осаждение
4. МОДИФИКАЦИЯ СВОЙСТВ ПОВЕРХНОСТИ И ПРИПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ
4.1. Формирование структур методом диффузии
4.2. Формирование структур методом ионной имплантации и ионного легирования
4.3. Формирование структур молекулярно-лучевой эпитаксии
4.4. Формирование структур методом газофазной эпитаксии
5. ФОТОЛИТОГРАФИЯ
5.1. Электронно-лучевая литография
5.2. Ионно-лучевая литография
6. ОБЪЕМНОЕ ТРАВЛЕНИЕ
6.1. Изотропное жидкостное травление
6.2. Электрохимическое травление кремния
6.3. Анизотропное жидкостное травление
6.4. Сухое травление
7. ТЕХНОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТНОЙ МЕХАНИКИ
7.1. LIGA-технология
7.2. Соединение пластин
7.3. Микростереолитография

Авторы работы: Потловский К.Г., Скороходов Е.А., Козубняк С.А.