Основы конструирования вакуумных плазменных установок

Основы конструирования вакуумных плазменных установок
М.К. Марахтанов, Д.В. Духопельников, Е.В. Воробьев
  • Год:
    2014
  • Тип издания:
    Учебное пособие
  • Объем:
    94 стр. / 5.46 п.л
  • Формат:
    60x84/16
  • ISBN:
    978-5-7038-4029-0
  • Читать Online

Ключевые слова: быстрота действия насоса, быстрота накачки, вакуум, вакуумно-плазменные технологии, газовые потоки, проводимость магистрали

Рассмотрены основные понятия вакуумной техники, а также характеристики вакуумных насосов, необходимые для проектирования и расчета вакуумных плазменных установок. Даны примеры определения параметров потоков газа и плазмы в вакууме. Приведены характеристики ряда промышленных и лабораторных установок, предназначенных для ионно-плазменной обработки изделий.

Для студентов старших курсов технических университетов и инженеров, занимающихся разработкой и конструированием вакуумно-плазменных систем.

ОГЛАВЛЕНИЕ
1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода
1.1. Основное уравнение вакуумной техники
1.2. Дифференциальное уравнение откачки. Расчет длительности форвакуумной откачки с учетом натекания
1.3. Остаточное давление в камере. Потоки натекания. Истинные и кажущиеся течи. Адсорбция и десорбция газов. Расчет длительности высоковакуумной откачки
2. Вакуумные насосы
2.1. Роторно-пластинчатый насос
2.2. Спиральный насос
2.3. Мембранный (диафрагменный) насос
2.4. Насос Рутса
2.5. Диффузионный насос
2.6. Турбомолекулярный насос
2.7. Криогенный насос
3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе
3.1. Поток газа в трубопроводе
3.2. Ионизация газового потока и выражение его расхода в эквивалентных амперах
3.3. Потоки заряженных частиц, истекающих из плазмы
3.4. Параметры двух основных технологических операций, выполняемых с помощью ионного пучка
4. Откачка вакуумных систем

Авторы работы: Марахтанов М.К., Духопельников Д.В., Воробьев Е.В.